Disruptieve ALD technologie van kennis tot product
Holst Centre/TNO heeft in de afgelopen 10 jaar spatial Atomic Layer Deposition (sALD) technologie ontwikkeld om beheerst dunne lagen op atomaire schaal af te zetten op folie of grote vlakken.
ALD technologie is vooral interessant voor toepassingen met flexibele elektronica zoals gebruikt in bijvoorbeeld de zonne-industrie en in displays.
VDL ETG Projects en Holst Centre hebben samengewerkt om deze nieuwe ALD technologie op te schalen naar grotere foliematen in een R2R (roll-to-roll) tool. Dit tool zal nu worden ingezet in onderzoek om gevoelige flexibele zonnecellen te beschermen tegen de barre omgevingsomstandigheden, waardoor hun levensduur wordt verlengd.
ALD sluit volledig aan op onze specialisatie in technologisch hoogwaardige R2R toepassingen.